葉面積指數(shù)是果樹冠層生物學(xué)特征的一個重要參數(shù),它可以影響果園的產(chǎn)量、品質(zhì)以及光能的截獲,在一定程度上決定了果園的生產(chǎn)效率。測量葉面積指數(shù)的方法有直接測量法和間接測量法,直接測量法具有破壞性,且費時費力、不能重復(fù),操作困難難以測量葉面積的動態(tài)變化等。間接測量法分為相對生長法和光學(xué)法,應(yīng)用比較廣泛。

　　植物冠層分析儀屬于光學(xué)法,特點是攜帶方便,不需要進(jìn)行額外的資料處理,可以直接給出葉面積指數(shù)值,原理是在假定植物冠層內(nèi)的各元素隨機分布,依據(jù)冠層間隙度或光學(xué)特性反映葉面積指數(shù)。缺點是測量所得葉面積指數(shù)有著較大的偏差。葉片的聚集效應(yīng)越強,偏差越大。因此在測量時,一般需要用直接法校正。

　　測量時根據(jù)果園的大小。分別設(shè)置3-5個測量點,在每個測量點再分別用方框取樣法和冠層分析法測量葉面積指數(shù)。方框取樣法是將方框隨機放在樹冠上,將方框內(nèi)的的葉片全部摘下,用葉面積儀測量框內(nèi)的葉面積,然后根據(jù)樹冠體積和栽植密度計算葉面積指數(shù)。測點的選擇與冠層分析儀方法相同。植物冠層分析儀是分別對應(yīng)測量天空5個范圍的散射輻射,這5個范圍的中心視天頂角分別為7°、23°、38°、53°和68°,分別與冠層上部和下部測量輻射通透密度,并根據(jù)轉(zhuǎn)換模型估算葉面積指數(shù)。在每一個測點的冠層頂部測一次,下部重復(fù)測量6-10次,冠層下方的測量在同一水平面上,且在無直接輻射的條件下進(jìn)行。為了避免光環(huán)境迅速的變化對測量結(jié)果的影響,選擇無直接輻射的條件下進(jìn)行,然后用植物冠層分析儀附帶的軟件對測量的資料進(jìn)一步加工以校正估值葉面積指數(shù)。

　　不同植園中直接測量與間接測量的對比：

　　在密植園中,用方框取樣法測得的葉面積指數(shù)范圍在3.2-5.8之間,其平均值5.0±0.2;校正前用冠層分析儀估計葉面積指數(shù)在2.3-4.8之間,其平均值為3.3±0.2,冠層分析法低估了32.0%。校正后,冠層分析儀估計的葉面積指數(shù)范圍在2.5-5.2之間,其平均值為4.4±0.1,比校正前提高了33.3%,且通過校正冠層分析儀的估計值減少到了12.0%。

　　在間伐園,用方框取樣法測得的葉面積指數(shù)在2.3-4.6之間,其平均值為3.6±0.2,而校正前用冠層分析儀估計葉面積指數(shù)在1.2-3.3,其平均值為2.0±0.2,冠層分析儀低估了35.5%。

　　與密植園相比,間伐園的葉面積指數(shù)較小,通過校正后冠層分析儀的葉面積指數(shù)在1.4-3.9之間,其平均值為2.7±0.2,比校正前提高了35.0%,通過校正后減少到了12.9%。